KHMP-2000全自动磨抛机 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
北京大学技术物理系(Department of Technical Physics, Peking University)成立于1955年,具有辉煌的发展历史和重要的人才培养与学术研究声誉。60余年来为国家的核科学发展做出了重要贡献,已为国家培养一万多名核科学人才,其中包括两院院士12人。设立博士点和博士后流动站的教学科研单位。 产品概述 KHMP-2000集预磨、研磨、抛光于一体的双盘式全自动磨抛机。它采用单片机技术通过触摸屏进行控制,磨抛盘采用直流无刷电机驱动,V带进行传动,磨头采用步进电机驱动,同步带进行传动 具有转动平稳,噪音低,安全可靠等特点;可以根据用户需要自行调整磨头和磨抛盘的转速 ,自行设定压力,自行设定制样时间,适应不同需求;自带照明系统,方便取放试样;自带冷却装置,可以在研磨时对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织,是工厂,科研单位以及大专院校实验室金相制样设备理想之选。 主要功能和特点 1. 底座采用铝合金材料铸造一体成型,稳定性好,质量轻,防腐蚀 2. 壳体采用ABS吸塑一体成型,外观新颖,防腐蚀 3. 水龙头采用全铜镀铬工艺,防腐蚀性好 4. 采用触摸屏控制和显示,操作简便,清晰直观 5. 具有可定时定速定压,水系统自动启闭功能 6. 带自动清洗功能,可对集污槽进行自动清洗,让集污槽保持清洁 7. 支持无极调速或四档调速模式,调速更方便 8. 支持单动和联动启动,启动更灵活 9. 可以存储10多组磨抛工艺参数,便于快速调用 10.磁性盘设计,支持快速换盘,更换砂纸和抛光织物更方面快捷 11.试样夹盘半传设计,配合内侧照明系统,方便取放试样 12.直流无刷电机和步进电机,转动平稳,噪音低,寿命长 13.急停按钮可以方便快捷立即停止操作,更加安全 14.双盘式设计,制样效率更高效 15.磨头自动锁紧功能(选配)。 技术参数
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