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深入了解下电解抛光腐蚀仪的运行原理

发布时间:2021-01-15      点击次数:112
       电解抛光腐蚀仪是利用电化学原理进行金相样品的制备。该设备既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀,具备制样快,重复性好、没有机械加工的变形层等优点,是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的理想设备。其用于金相试样的电解抛光和腐蚀,由电源、腐蚀器两部分组成。电源:100V/6A,数值显示,可预设电流/电压,计算机控制、稳定电流/电压。腐蚀器包含:液体搅拌器、冷却盘管。
  关于电解抛光腐蚀仪的电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。
  电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。
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